细粉加工设备(20-400目)
我公司自主研发的MTW欧版磨、LM立式磨等细粉加工设备，拥有多项国家专利，能够将石灰石、方解石、碳酸钙、重晶石、石膏、膨润土等物料研磨至20-400目，是您在电厂脱硫、煤粉制备、重钙加工等工业制粉领域的得力助手。
超细粉加工设备(400-3250目)
LUM超细立磨、MW环辊微粉磨吸收现代工业磨粉技术，专注于400-3250目范围内超细粉磨加工，细度可调可控，突破超细粉加工产能瓶颈，是超细粉加工领域粉磨装备的良好选择。
粗粉加工设备(0-3MM)
兼具磨粉机和破碎机性能优势，产量高、破碎比大、成品率高，在粗粉加工方面成绩斐然。
碳化硅水洗设备
产品中心盛美半导体设备（上海）股份有限公司
PostCMP清洗设备 应用于硅片和碳化硅衬底制造 盛美上海的PostCMP设备用于制造高质量衬底化学机械研磨 (CMP)工艺之后的清洗，有湿进干出（WIDO）和干进干 2023年9月25日 本文介绍了一种新的碳化硅（SiC）晶圆清洗方法。 我们发现在RCA清洗中，氟化氢（HF）溶液浸渍处理会破坏SiC，因此设计了一种新的不使用HF的清洗方法， 【推荐】碳化硅晶圆清洗的新方法 电子工程专辑 EE Times
单晶圆清洗机 KED凯尔迪科技股份有限公司
812 Inch 单片晶圆dryin/dryout清洗平台，适用于先进封装制程的particle、有机、无机、助焊剂等污染物清洗。 可选配二流体、megasonic、超高压喷洗、RCA 、Hot water及蒸 2023年6月29日 CSE华林科纳半导体多年来一直专注于半导体湿法清洗工艺解决方案，其硅片晶圆清洗机、蚀刻机、单片清洗机、电镀设备、IPA干燥系统、CDS供液系统、化学品 华林科纳半导体设备有限公司湿制程设备硅片清洗机专业制造
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碳化硅晶片清洗工艺 百度文库
碳化硅晶片清洗是保证其性能和可靠性的重要步骤。 通过预清洗、酸洗、碱洗、水洗、二次清洗和干燥等工艺步骤，可以有效去除晶片表面的杂质和污染物，提高晶片的纯净度。 盛美的单片清洗机可用于晶圆正、背面清洗工艺，同时匹配兆声波装置以达到优质的清洗表现。 该设备可广泛应用于大硅片制造领域。产品中心盛美半导体设备（上海）股份有限公司
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硅片（晶圆）槽式自动清洗设备（碳化硅的话，需另外咨询
硅片（晶圆）清洗设备介绍： 研磨后清洗：去除研磨磨粒（主要用碱+界面清洗）。 碱性蚀刻清洗：以去除研磨后加工变形为目的。 前热处理清洗：基本上是RCA清洗，但要看用 高纯度碳化硅超声波清洗烘干一体机是一种用于清洗硅料表面的设备。 它通常采用自动化控制，可以根据不同的硅料类型和清洗要求，调整清洗参数和清洗方式，实现高效、精准 高纯度碳化硅Sic清洗线半导体硅料硅片超声波清洗烘干机
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盛美上海将为硅片和碳化硅衬底制造推出新型预清洗设备
2022年7月14日 《科创板日报》14日消息，据盛美上海消息，今日推出新型化学机械研磨后（PostCMP）清洗设备。 这是公司的款PostCMP清洗设备，用于制造高质量衬底化 水洗碳化硅设备 碳化硅水洗专用离心机LGZ系列平板离白炽灯照业连云港腾创化工机械有限公司 详细介绍本公司是一家专业针对碳化硅、磨料、微粉、冶金、粉末等制作生产过程 水洗碳化硅设备
碳化硅晶片清洗工艺 百度文库
将待清洗的碳化硅晶片放入预清洗槽中，使用去离子水进行浸泡清洗。 预清洗的目的是去除表面附着的杂质和油污，以减少后续清洗工艺的负担。 2 酸洗 在酸洗槽中加入稀硝酸或稀盐酸溶液，将碳化硅晶片浸泡一段时间。 酸洗的目的是去除碳化硅晶片表面 2024年6月5日 另外，对于碳化硅衬底宏观缺陷检测的出货阶段，目前仍然需要人工参与，但是正在研发一种设备来替代人工，目前已经有了样机。 在宏观检测阶段，需要查看透明片下面是否有污染或崩边等问题。 衬底和外延片的出货检测主要由日本的Lasertec和美国 碳化硅衬底及外延材料量测检测设备的挑战及国产替代进度
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又一巨头建设8英寸SiC产线，已采购这家国产设备 今年一季度
据优晶科技相关负责人介绍，2023年底，优晶科技获得了一家国际半导体巨头I公司的碳化硅长晶设备订单，即将开始交付。 据行业人士透露，这家海外客户是全球SiC头部厂商，正在建设 8英寸全产业链 项目，包含SiC衬底生产线、SiC晶圆生产线，长晶设备规划采购 碳化硅水洗料、碳化硅水洗料行情、碳化硅水洗料厂家胜泰微粉位于山东省青州市经济开发区东区,是一家专业生产碳化硅微粉1500目1200#等产品的公司。 生产的碳化硅微粉。碳化硅水洗工艺
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碳化硅水洗设备 抖音
2024年5月22日 您在查找碳化硅水洗设备吗？抖音综合帮你找到更多相关视频、图文、直播内容，支持在线观看。更有海量高清视频、相关直播、用户，满足您的在线观看需求。2013年9月26日 目前，该设备在本行业已有多家。:宁夏东方南兴研磨材料有限公司碳化硅水洗工序局部改造项目设备采购招标中标候选人公示 宁夏东方南兴研磨材料有限公司碳化硅水洗工序局部改造项目设备采购招标中标候选人公示招标编号：NXITCH042水洗碳化硅设备 采石场设备网
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碳化硅水洗厂设备，联系碳化硅吧百度贴吧
2015年9月25日 碳化硅水洗厂设备，联3000平方钢结构厂房1，脱硫除器2，真空带式过滤机一台 3，无塔供水设备一台4，锥形双塔混合机二台 5，1吨锅炉一台6，小型搅拌器25台 7，盘式连续干燥机一台8，PVCPP制品18639公斤2018年4月7日 水洗碳化硅设备 文章来源：黎明重工 责任编辑：黎明杨小工 2018/04/07 在破碎机设备类型中，有锤式破碎机、颚式破碎机、圆锥式破碎机、反击式破碎机，复合式破碎机等，它们自身又分为多种不同型号产品。水洗碳化硅设备【黎明重工科技】
国内碳化硅（SiC）长晶炉供应商10强 艾邦半导体网
2 天之前 来源：晶升股份年报 以下排名不分先后，如有遗漏，艾邦新建碳化硅功率半导体产业链微信群，欢迎大家加群讨论。 SiC长晶设备国产化，8英寸开始供货 目前国内主要的碳化硅长晶炉厂商主要分为两种类型，一是专业晶体生长设备供应商，二是碳化硅衬底厂商 供应碳化硅酸洗废液处理废酸回收处理设备029刘女士供应 设备可以到达零排放；可以大大地减少废水排放费用。特点：设备适用范围广，操作简便；处理量大、性价比高相对于膜回收酸设备，可根据水质、水量要求进行选型，可调。碳化硅洗酸设备,矿山设备厂家
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水洗碳化硅设备建设规模
2021年1月25日 碳化硅（SiC）设备和工艺情况跟踪 ！ 投资不易，同志仍需 碳化硅3个常识点核心点内容切磨抛工序尾声1、质量水平 碳化硅衬底质量取决于碳化硅粉末单晶炉工艺水平三个因素。碳化硅的水洗原理与作用 知乎 知乎专栏 Mar 9, 2021 碳化硅水洗的原理是在于碳化硅颗粒与炉芯体石墨相比，碳化硅颗粒密度大（碳化硅砂的密度通常为%，而石墨的密度g/m³）。 粒度粗的碳化 碳化硅外延材料的主要设备，目前这个市场上主要有四家： 1、德国的Aixtron：碳化硅水洗设备
碳化硅水洗软化水设备
碳化硅水洗软化水设备，碳化硅800相当于多少目数绿碳化硅微粉是将绿碳化硅原块通过超细磨进行深加工的一种产品。设备主要以:破碎、雷蒙磨或球磨机制粉。水洗碳化硅设备 碳化硅水洗专用离心机LGZ系列平板离白炽灯照业连云港腾创化工机械有限公司 详细介绍本公司是一家专业针对碳化硅、磨料、微粉、冶金、粉末等制作生产过程中的脱水工序着重研究并推出固液分离专用设备。水洗碳化硅设备
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一种多级喷淋式碳化硅颗粒水洗设备pdf专利下载原创力专利
2023年8月21日 该设备通过多级喷淋式水洗的方式，能够更好的将碳化硅表面的超细灰尘去除，提升对碳化硅的清洗效果，且通过两个隔板的设置，使得水资源可以多次重复的使用，节省水资源的利用。华林科纳半导体湿法工艺服务平台，华林科纳专注于湿法清洗、酸碱腐蚀、刻蚀、电化学镀、化学减薄等WAFER晶圆表面处理工艺服务。公司以20年的湿法服务经验，为用户提供泛半导体湿法设备、工艺数据、实验室、半导体耗材等管家式服务。半导体湿法工艺晶圆清洗湿法刻蚀华林科纳半导体设备
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